| Igel, Thomas: Untersuchung der strukturellen und magnetischen Eigenschaften ultradünner 3d-Metall-Filme auf Fe(100) mit Ionenstrahlen |
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Name |
Thomas Igel |
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Anschrift |
Bastianstraße 24, 13357 Berlin |
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Geburtsdatum |
27.01.1969 |
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Geburtsort |
Dahme |
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Familienstand |
ledig |
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1975 - 1985 |
Besuch der Polytechnischen Oberschule "Ernst Thälmann" in Ludwigsfelde |
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1985 - 1987 |
Besuch der Erweiterten Oberschule "Arthur Ladwig" in Ludwigsfelde |
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03.07.1987 |
Abitur |
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03.09.1990 |
Immatrikulation an der Humboldt-Universität zu Berlin im Fachbereich Physik / Fachrichtung Physik |
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08.10.1992 |
Vordiplom im Studiengang Physik |
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29.04.1996 |
Diplom im Studiengang Physik |
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05/1995 - 03/2000 |
wissenschaftlicher Mitarbeiter des Lehrstuhls "Physik der Grenzflächen und dünnen Schichten" am Institut für Physik der Humboldt-Universität zu Berlin mit dem Ziel der Promotion |
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04/2000 - 9/2000 |
Prozessingenieur im Department Films - CVD/PVD bei der Semiconductor300 GmbH & Co. KG, Dresden |
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seit 10/2000 |
Prozessingenieur im Department CVD/PVD bei Infineon Technologies SC300 GmbH & Co. KG, Dresden |
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HTML - Version erstellt am: Wed Feb 27 12:47:01 2002 |