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Dissertation

Autor(en): Roman Shayduk
Titel: Molecular beam epitaxy of GeTe-Sb2Te3 phase change materials studied by X-ray diffraction
Gutachter: Klaus H. Ploog; Ted Masselink; Andreas Wieck
Erscheinungsdatum: 09.12.2010
Volltext: pdf (urn:nbn:de:kobv:11-100179551)
Fachgebiet(e): Physik
Schlagwörter (ger): Molekularstrahlepitaxie, Phasenwechselmaterialien, Rontgenbeugung, Hochenergie Elektronenbeugung unter streifendem Einfall
Schlagwörter (eng): X-ray diffraction, Molecular beam epitaxy, Phase change materials, Reflection high energy electron diffraction
Einrichtung: Humboldt-Universität zu Berlin, Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät I
Lizenz: Namensnennung - Keine kommerzielle Nutzung (CC BY NC)
Zitationshinweis: Shayduk, Roman: Molecular beam epitaxy of GeTe-Sb2Te3 phase change materials studied by X-ray diffraction; Dissertation, Humboldt-Universität zu Berlin, Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät I , publiziert am 09.12.2010, urn:nbn:de:kobv:11-100179551
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Abstract (ger):
Die monolithische Integration von Phasenwechselmaterialien mit Halbleiter-Hetero\-strukturen er\"offnet neue Perspektiven f\"ur zuk\"unftige Generationen von nichtfl\"uchtigen Speicherbauelementen. %Epitaktische Phasenwechselmaterialien erm�glichen detaillierte %Studien der strukturellen �nderungen w�hrend des Phasen�bergangs und %erlauben eine Bestimmung der Skalierungslimits zuk�nftiger %Datenspeicher. Diese Arbeit befasst sich mit dem epitaktischen Wachstum von Ge-Sb-Te Phasenwechselmaterialien. Dazu wurden Ge-Sb-Te(GST) Schichten mittels Molekularstrahlepitaxie (MBE) auf GaSb(001)-Substraten abgeschieden. Die kristallografische Orientierung und die Ver\"anderungen der Gitterkonstante w\"ahrend des Wachstums wurden mittels R\"ontgenbeugung unter streifendem Einfall (GIXRD) bestimmt. Das Nukleationsverhalten zu Beginn des Wachstums wurde mittels Hochenergie-Elektronenbeugung unter streifendem Einfall (RHEED) untersucht.
Abstract (eng):
The integration of phase change materials into semiconductor heterostructures may lead to the development of a new generation of high density non-volatile phase change memories. Epitaxial phase change materials allow to study the detailed structural changes during the phase transition and to determine the scaling limits of the memory. This work is dedicated to the epitaxial growth of Ge-Sb-Te phase change alloys on GaSb(001). We deposit Ge-Sb-Te (GST) films on GaSb(001) substrates by means of molecular beam epitaxy (MBE). The film orientation and lattice constant evolution is determined in real time during growth using grazing incidence X-ray diffraction (GID). The nucleation stage of the growth is studied \emph{in situ} using reflection high energy electron diffraction (RHEED).
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Generiert am 02.08.2014, 08:49:23