Modeling for Chemical Vapor Deposition

Jürgen Geiser

edoc-Server der Humboldt-Universität zu Berlin

Band einer Schriftenreihe

Autor(en):	Jürgen Geiser
Titel:	Modeling for Chemical Vapor Deposition – Meso- and Microscale Models
Erscheinungsjahr:	2008
Erschienen in:	Preprints aus dem Institut für Mathematik 1 (Mathematik-Preprints) ISSN: 0863-0976
Volltext:	pdf (urn:nbn:de:kobv:11-100190685)
Fachgebiet(e):	Mathematik
Schlagwörter (eng):	Chemical vapor deposition, multi-scale problem, convection-diffusion equations
Herausgeber:	Humboldt-Universität zu Berlin, Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät II, Institut für Mathematik
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Abstract (eng):

In this paper we present modeling and simulation for chemical vapor deposition (CVD) on metallic bipolar plates. In the models we discuss the application of different models to simulate the plasma-transport of chemical reactants in the gas chamber. We take into account one-dimensional models, that can be treated analytically under some assumptions and multi-dimensional models that are solved numerically with software packages. Because of the multi-scaling problem of the physical behavior, we discuss adapted models in different domains and scales. The near- and far-field contexts are based on large scales that can be treated with continuous models, such as convection-diffusion-reaction equations, and small scales that are based on chemical and molecular models, e.g. Boltzmann-equations. The results are discussed with physical experiments to give valid models for the assumed growth of thin layers.

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Generiert am 22.05.2013, 13:06:15