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Band einer Schriftenreihe

Autor(en): Jürgen Geiser; Robert Röhle
Titel: Modeling and Simulation for Physical Vapor Deposition – Multiscale Model
Erscheinungsjahr: 2008
Erschienen in: Preprints aus dem Institut für Mathematik  14 (Mathematik-Preprints)
ISSN: 0863-0976
Volltext: pdf (urn:nbn:de:kobv:11-100190791)
Fachgebiet(e): Mathematik
Schlagwörter (eng): Physical vapor deposition, multi-scale problem convection-diffusion equations, reaction equations, splitting methods
Herausgeber: Humboldt-Universität zu Berlin, Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät II, Institut für Mathematik
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Abstract (eng):
In this paper, we present modeling and simulation for physical vapor deposition for metallic bipolar plates. In the models, we discuss the application of different models to simulate the transport of chemical reactions of the gas species in the gas-chamber. The so called sputter process is an extremely sensitive process to deposit thin layers to metallic plates. We taken into account lower order models to obtain first results with respect to the gas fluxes and the kinetics in the chamber. The model equations can be treated analytically in some circumstances and complicate multi-dimensional models are solved numerically with a software-packages (UG unstructed grids). Because of multi-scaling and multi-physical behavior of the models, we discuss adapted schemes to solve more accurate in the different domains and scales. The results are discussed with physical experiments to give a valid model for the assumed growth of thin layers.
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