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Band einer Schriftenreihe

Autor(en): Jürgen Geiser; Robert Roehle
Titel: Kinetic processes and Phase-transition of CVD processes for Ti₃SiC₂
Erscheinungsjahr: 2010
Erschienen in: Preprints aus dem Institut für Mathematik  1 (Mathematik-Preprints)
ISSN: 0863-0976
Volltext: pdf (urn:nbn:de:kobv:11-100193147)
Fachgebiet(e): Mathematik
Schlagwörter (eng): convection-diffusion equations, PE-CVD process, pathway model
Herausgeber: Humboldt-Universität zu Berlin, Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät II, Institut für Mathematik
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Abstract (eng):
In this paper we present a kinetic model based on numerical simulations of a chemical vapor deposition (CVD) process. We discuss a model that is based on kinetics of the deposition rates to the material. Such a simple model can explain the experimental results. Based on experiments with Ti3SiC2 we verify our model. Here different processes of ionized Ti+, Ti++ and C are important to achieve our stoichiometry. The numerical methods are based on iterative schemes to solve coupled and nonlinear differential equations. The results are discussed with physical experiments to give a valid model for the assumed growth of thin layers.
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Generiert am 18.05.2013, 15:43:47