| edoc-Server der Humboldt-Universität zu Berlin |
| Autor(en): | Jürgen Geiser; Christian Fleck | Titel: | Adaptive Step-size Control in Simulation of diffusive CVD Processes |
| Erscheinungsjahr: | 2008 |
| Erschienen in: |
Preprints aus dem Institut für Mathematik 8 (Mathematik-Preprints) ISSN: 0863-0976 |
| Volltext: | pdf (urn:nbn:de:kobv:11-100190757) |
| Fachgebiet(e): | Mathematik |
| Schlagwörter (eng): | Chemical vapor deposition, multi-scale problem diffusion equations, PID control |
| Herausgeber: | Humboldt-Universität zu Berlin, Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät II, Institut für Mathematik |
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Endnote Bibtex |
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| Abstract (eng): | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| In this paper, we present control strategies of a diffusion process for chemical vapor deposition for metallic bipolar plates. In the models, we discuss the application of different models to simulate the plasma-transport of chemical reactants in the gas-chamber. The contribution are an optimal control problem based on a PID control to obtain an homogeneous layering. We taken into account one- and two-dimensional problems, that are given with constraints and control functions. A finite element formulation with adaptive feedback control for time-step selection has been developed for the diffusion process. The optimization is presented with efficient algorithms. Numerical experiments are discussed with respect to the diffusion processes of the macro-scopic model. | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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